Pengembangan Sistem Kontrol Pemanas Evaporator Vakum Menggunakan Teknik Pwm Berdasarkan Algoritma Proportional-Integral-Derivative (Pid) Termodifikasi

Permasalahan utama pada proses penumbuhan pelapisan tipis menggunakan evaporator vakum adalah terkait dengan akurasi dan kestabilan dari temperatur pemanasan, jika besarnya temperatur tersebut diatur secara manual maka adanya fluktuasi dari temperatur menyebabkan perbedaan morfologi lapisan tipis yang ditumbuhkan. Oleh karenanya, dibutuhkan suatu sistem kontrol temperatur yang bekerja secara otomatis dengan tingkat kestabilan dan akurasi yang tinggi. Dalam penelitian ini dikembangkan sistem kontrol proportional-integral-derivatif (PID) yang digunakan untuk mengatur suhu deposan sesuai dengan suhu pemanasan yang dibutuhkan. Tesis ini memaparkan tentang desain kontrol pemanas evaporator vakum menggunakan teknik Pulse Width Modulation (PWM) berdasarkan algoritma PID untuk mengatur suhu pemanasan pada proses pelapisan bahan Stearic Acid (SA). Sistem kontrol yang dirancang memiliki beberapa keunggulan sebagaimana yang akan dijelaskan, dibandingkan dengan kontrol manual yang ada. Performasi dari sistem kontrol yang dirancang sebagaimana ditunjukkan dalam hasil pengujian respon sistem keseluruhan dan pengujian respon sistem terhadap gangguan. Dari hasil pengujian menunjukkan bahwa sistem memiliki respon pemanasan yang relatif cepat (sekitar 150 s) dan osilasi pada saat steady state relatif kecil dengan rata-rata kesalahan keadaan tunak sebesar 0,61%. Sedangkan dari hasil pengujian respon sistem terhadap gangguan menunjukkan bahwa sistem memiliki tingkat kestabilan tinggi hal ini dapat dilihat berdasarkan lamanya waktu relaksasi dari sistem ketika diberikan gangguan (sekitar 30 s). Kontrol otomatis yang dirancang memiliki respon sistem yang relatif cepat dan osilasi pada saat steady state yang relatif kecil. Hal ini dikarenakan adanya faktor koreksi dari nilai KP dan Ki pada parameter kontrol PID sehingga kondisi overshoot dan osilasi ketika steady state dapat direduksi. Besarnya resistansi pemanas juga mempengaruhi lamanya waktu pemanasan (respon time), dengan rendahnya resistansi dari pemanas yang digunakan menyebabkan respon pemanasan menjadi lebih cepa