Описаны результаты исследования эмиссионного оптического спектра плазмы разряда ионного источника на базе ускорителя с анодным слоем. Предложены спектральные участки для контроля химического состава плазмы. Описан оптимальный алгоритм динамического управления расходом инертного и реактивного газов в процессах ионно-лучевого осаждения пленок оксидов различных материалов
Проведен анализ взаимосвязи физико-химических характеристик тугоплавких соединений с электронной кон...
В работе моделируется движение заряженных частиц в электростатическом поле и потенциалы электродов п...
38-38Проведено теоретическое и экспериментальное исследование плазменного слоя, формируемого у повер...
Предложена структура системы управления расходами рабочих газов технологических установок ионно-луче...
Основной причиной разрушения плазменных покрытий являются термомеханические напряжения, возникающие ...
Объектом исследования являются интегрированные ионно-плазменные процессы формирования тонкопленочных...
Проведены исследования эффектов взаимодействия интенсивных ионных потоков с поверхностью в процессах...
Секция 5. Влияние излучений на структуру и свойства покрытийВ работе исследуется математическая моде...
Бомбардировка электронными частицами широко применяется в процессах вакуумного напыления. Описаны со...
Истраживања у оквиру ове докторске дисертације посвећена су изучавању савремених технологија наношењ...
The description of the structure and function of the ion beam source tape of various gases, includin...
Оценка напряженности магнитного поля является одной из важных задач для определения утечки информаци...
Демонстрируются результаты исследования, показывающие перспективы использования газа МАФ взамен проп...
Секция 6. Современное оборудование и технологии = Section 6. Advances in Equipment and TechnologiesВ...
Рассмотрены закономерности влияния температуры поверхности осаждения и плотности потока летучих прод...
Проведен анализ взаимосвязи физико-химических характеристик тугоплавких соединений с электронной кон...
В работе моделируется движение заряженных частиц в электростатическом поле и потенциалы электродов п...
38-38Проведено теоретическое и экспериментальное исследование плазменного слоя, формируемого у повер...
Предложена структура системы управления расходами рабочих газов технологических установок ионно-луче...
Основной причиной разрушения плазменных покрытий являются термомеханические напряжения, возникающие ...
Объектом исследования являются интегрированные ионно-плазменные процессы формирования тонкопленочных...
Проведены исследования эффектов взаимодействия интенсивных ионных потоков с поверхностью в процессах...
Секция 5. Влияние излучений на структуру и свойства покрытийВ работе исследуется математическая моде...
Бомбардировка электронными частицами широко применяется в процессах вакуумного напыления. Описаны со...
Истраживања у оквиру ове докторске дисертације посвећена су изучавању савремених технологија наношењ...
The description of the structure and function of the ion beam source tape of various gases, includin...
Оценка напряженности магнитного поля является одной из важных задач для определения утечки информаци...
Демонстрируются результаты исследования, показывающие перспективы использования газа МАФ взамен проп...
Секция 6. Современное оборудование и технологии = Section 6. Advances in Equipment and TechnologiesВ...
Рассмотрены закономерности влияния температуры поверхности осаждения и плотности потока летучих прод...
Проведен анализ взаимосвязи физико-химических характеристик тугоплавких соединений с электронной кон...
В работе моделируется движение заряженных частиц в электростатическом поле и потенциалы электродов п...
38-38Проведено теоретическое и экспериментальное исследование плазменного слоя, формируемого у повер...