PENGARUH KANDUNGAN Co TERHADAP SIFAT OPTIK FILM TIPIS TiO2-Co YANG DITUMBUHKAN DENGAN METODE MOCVD

PENGARUH KANDUNGAN Co TERHADAP SIFAT OPTIK FILM TIPIS TiO2-Co YANG DITUMBUHKAN DENGAN METODE MOCVD. Film tipis TiO2-Co telah ditumbuhkan di atas substrat Si (100) tipe-n dengan metode metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), menggunakan Titanium (IV) isopropoxide (Ti(OCH(CH3)2)4 dan tris (2,2,6,6-tetra methyl-3, 5-heptanedionato) cobalt (III) [Co(TMHD)3), masing-masing dengan kemurnian 99,99% dan 99% sebagai prekursor metal organik. Tetrahydrofuron (THF) digunakan sebagai pelarut bahan prekursor. Sifat optik dari filmtipis TiO2-Co sebagai fungsi dari kandungan Co telah diinvestigasi menggunakan metode spektroskopi reflektansi pada rentang 200 nm hingga 2400 nm. Hasil karakterisasi secara optik menunjukkan bahwa bertambahnya konsentrasi Co akan menurunkan energi band-gap (Eg) dan indek bias (n) dari film tipis TiO2-Co tersebut. Kurva histeresis yang diperoleh melalui pengukuran VSMmemiliki nilai koersivitas dan saturasi magnetik, masing-masing sebesar 100 Oe dan 280 emu/cm3. Sehingga dapat disimpulkan bahwa film tipis yang dihasilkan pada penelitian ini bersifat soft ferromagnetic, yang sangat potensial untuk diaplikasikan dalam teknologi spintronik