Numerical analysis of the kinetics of chemical reactions in an argon-silane plasma of the glow discharge

Путем численного решения уравнений диффузии для нейтральных компонентов с учетом протекания химических реакций в газовой фазе проведено моделирование состава аргон-силановой плазмы тлеющего разряда. Анализируется вклад наиболее значимых химических реакций в кинетику образования и гибели различных компонентов плазмы. Исследуется кинетика реагентов в зависимости от времени пребывания рабочего газа в разрядной зоне. Обсуждается вопрос о количестве компонентов, включаемых в модель. Показано, что для интервалов времени t ≤ 10−2 с компоненты SinHx (n ≥ 3) не существенны для моделирования химической кинетики пленкообразующих радикалов