MoS2 band gap modification upon replacement of sulfur atoms by tellurium ones

Установлено, что ширина запрещенной зоны слоя MoS2 (дисульфида молибдена) мономолекулярной толщины при встраивании атомов серы на место атомов теллура уменьшается с 1,84 эВ и достигает 1,17 эВ в случае MoTe2. Как MoTe2, так и MoS2 в объемном состоянии являются непрямозонными полупроводниками, в то время как их монослои, а также соединения MoS2-xTex при x 1,5 становятся прямозонными. В случае, когда концентрация атомов теллура меньше концентрации атомов серы, ширина запрещенной зоны тройного соединения линейно уменьшается с повышением концентрации атомов теллура.The electron energy band gap in one monomolecular layer of molybdenum dichalcogenide MoS2 is reduced upon substitution of S atoms by Te ones from 1,84 to 1,17 eV in the case of MoTe2. Both MoTe2 and MoS2 compounds in a bulk phase are indirect-gap semiconductors while one monomolecular layer of MoS2-xTex compounds are transforming into direct-gap compounds for x < 0,5 or x > 1,5. The band gap dependence has a linear behavior in the case when the concentration of Te atoms is smaller than the concentration of S atoms