Obtaining a cathode target of silicides for vacuum ion-plasma sources

В различных отраслях промышленности широко применяются покрытия на основе силицидов разных металлов с использованием вакуумно-плазменной обработки изделий. Качество таких покрытий определяется степенью химической чистоты катода-мишени, правильным выбором смеси технологических газов, а также величиной ускоряющего потенциала, подаваемого на подложку. Традиционные способы получения многокомпонентных мишеней имеют ряд недостатков, таких, как высокая остаточная пористость, избыточное содержание примесей, а также необходимость использования дорогостоящего оборудования. Перспективным является использование литейных технологий в процессе производства катодов-мишеней. В работе представлены обобщенные результаты экспериментальных исследований особенностей изготовления катодов-мишеней для вакуумных ионно-плазменных источников методами восстановительной и высокоскоростной индукционной плавки. В качестве материала использовали силициды титана, меди и никеля