Изменение локальной температуры материала при электронно-пучковой обработке и ее влияние на свойства модифицированного слоя

Проведены измерения локальной температуры на поверхности системы керамическое покрытие – алюминиевая подложка при ее обработке импульсным электронным пучковом субмиллисекундной длительности. Варьируемыми параметрами выступали плотность энергии пучка, длительность импульса, толщина TiCuN-покрытия. Выявлены температурные зависимости, максимальные значения температуры, достигаемые во время импульса, скорости нагрева и охлаждения поверхности. Установлены оптимальные режимы для электронно-пучковой обработки системы TiCuN-покрытие – А7-подложка