International audienceDans le cadre de ces travaux, nous avons étudié différents principes pour concevoir une nouvelle structure MOS performante. Nous avons arrêté notre choix sur une structure se basant sur le concept de la superjonction, réalisée par gravure profonde et diffusion de bore. Une grande partie des travaux de recherche a consisté à optimiser cette structure. Pour cela, nous avons étudié l'influence des paramètres technologiques et géométriques sur le compromis " tenue en tension/résistance passante spécifique ". Nous avons également développé une terminaison innovante afin d'assurer la tenue en tension du composant. Il a ensuite fallu identifier les étapes critiques du procédé de fabrication. À partir de ces résultats, nous av...
La mise à l échelle des technologies CMOS s accompagne d une réduction des tensions d alimentation q...
Le développement des convertisseurs haute tension pour les applications de traction ou de distributi...
Performances des circuits références de tension -- Notions foncamentales -- Caractéristiques des réf...
International audienceDans le cadre de ces travaux, nous avons étudié différents principes pour conc...
National audienceDans ce papier, une étude est proposée afin de trouver une alternative à la technol...
National audienceDans ce papier, une étude est proposée afin de trouver une alternative à la technol...
MOS innovante. Quatre technologies sont présentées et comparée: L’UMOSFET, l’OBUMOSFET, le SJVDMOSFE...
International audienceCet article a pour but de présenter les avancées des travaux dans le domaine d...
Les composants à semi-conducteur en silicium connaissent des limites en terme de rapidité, températu...
L'évolution des technologies des semi-conducteurs vers des géométries de plus en plus fines permet u...
International audienceDeux types de transistors à effet de champ seront présentés, permettant d'expl...
L'évolution des technologies des semi-conducteurs vers des géométries de plus en plus fines permet u...
National audienceCe papier expose une nouvelle méthodologie doptimisation dun boîtier de transistor ...
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Ces travaux concernent la réalisation de composants de puissance très haute tension entre 4kV et 6kV...
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