Control Method of the Primary and Secondary Ions Current from the Substrate in the Laser Plasma Source of a Deposition Nanofilms / V.K. Goncharov, A.A. Pehota, М.V. Puzyrev

Секция 6. Современное оборудование и технологии = Section 6. Advances in Equipment and TechnologiesВ лазерноплазменном источнике экспериментально получены ионные потоки, в которых регулируются как энергия ионов, так и плотность ионного потока. Рассмотрены режимы травления и нанесения покрытий на подложку ионными потоками. Предложен метод контроля параметров первичного ионного потока, падающего на подложку, и параметров вторичного ионного потока с подложки.Ion fluxes experimentally are obtained in a laser-plasma source. The ion energy and the ion density are controlled in this flux. The regime of etching and deposition on the substrate by fluxes streams are considered. A method is proposed for controlling the parameters of the primary ion flux, which is fed to the substrate, and the parameters of the secondary ion flux from the substrate