The interaction of carbonyl-containing negative resist with visible and UV radiation / V.V.Griroryev, A.V.Pavlov

Синтезированы поликонденсационные смолы, содержащие карбонильные и гидроксильные группы в боковой цепи макромолекулы. Путем полимераналогичных превращений в состав макромолекул были введены дополнительные функциональные группы: азидные, халконовые, а также остатки непредельных карбоновых кислот. На базе полученных высокомолекулярных соединений разработаны негативные резистивные композиции. Для них определена светочуствительность к излучению в видимом диапазоне спектра (лампа ДРШ-250) с использованием как добавленного, так и внутреннего азидного сенсибилизатора. Рассчитана также чувствительность композиций к УФ излучению в области 220-280 нм. Для указанных резистов отработаны операции литографического процесса, включая травление различными способами. Методом электрографии определена дефектность слоев после проведения литографии.Polycondensates having carbonyl and phenolic hydroxyl groups were synthesized. Macromolecules with additional functional units, for example, azides, halcones and rests of somecarboxylic acids were prepared by polymer analogous transformations. On the basis of syntesized high-molecular compounds the negative resistive compositions were work out