ПРОГНОЗИРОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ ФОРМИРОВАНИЯ ГАЗОЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ МАТЕРИАЛОВ НА ОСНОВЕ ПОЛИАКРИЛОНИТРИЛА НА ЭЛЕКТРОСОПРОТИВЛЕНИЕ

Samples of polyacrylonitrile (PAN) films and cobalt-containing PAN films have been fabricated by method of not coherent IR-radiation. It is constructed QSPR model, allowing to relate values of resistance of PAN films and Co-containing PAN films with parameters of technological process of formation of gas-sensing materials based on them. It is established that resistance of the obtained materials depends on temperature and time of the second stage of IR-pyrolize and on dopant concentration.Изготовлены образцы пленок полиакрилонитрила (ПАН) и пленок кобальтсодержащего ПАН методом некогерентного ИК-излучения. Построена QSPR-модель, позволяющая связать значения электросопротивления пленок ПАН и кобальтсодержащего ПАН с параметрами технологического процесса формирования газочувствительного материала на их основе. Установлено, что электросопротивление полученных материалов зависит от температуры и времени второго этапа ИК-отжига и концентрации модифицирующей добавки