Computersimulationen zu Struktur und Wachstum von Bornitrid

Dünne Filme aus kubischem Bornitrid (c-BN) sind aufgrund ihrer herausragenden thermomechanischen, chemischen und elektronischen Eigenschaften von besonderem Interesse für die Materialforschung. Bornitrid in der kubischen Phase ist das nach Diamant härteste bekannte Material. Anders als Kohlenstoff verhält es sich gegenüber ferrithaltigen Metallen chemisch inert und zeigt auch bei hohen Temperaturen eine vergleichsweise geringere Oxidationsneigung. Wegen seiner hohen thermischen Stabilität und der Möglichkeit, dünne Schichten bei niedrigen Temperaturen zu synthetisieren, ist Bornitrid als Hard-Coating-Material für Werkzeuge besonders geeignet. Mögliche Anwendungen für mikroelelektronische Hochleistungsbauelemente ergeben sich aus der hohen Wärmeleitfähigkeit und der weiten Bandlücke (Eg ~ 6 eV). Bornitrid kann mit Beryllium und Silizium n- bzw. p-Typ dotiert werden und läßt sich mit einer Oxidschicht passivieren. Die optische Transparenz im sichtbaren und Infrarotbereich macht das Material zudem für die Oberflächenvergütung optischer Bauelemente geeignet.