專利類型:發明 專利國別:中華民國 專利公開/公告號:201114930/I421361 專利申請號:098136823 國際分類號:C23C-014/34(2006.01)[[abstract]]本發明提供一種具有微結構基板及其成型方法。微結構基板成型方法包含提供基材,基材的熔點為第一溫度;提供至少一靶材,對基材之表面以濺鍍(Sputter)形成金屬薄層,金屬薄層的熔點為第二溫度,第二溫度小於第一溫度;持續對金屬薄層加熱,使金屬薄層的溫度上升至第三溫度,第三溫度小於第二溫度,且第三溫度與第二溫度之間具有溫度差,藉此使金屬薄層形成複數個半球狀微結構,各半球狀微結構之間具有間隙,且金屬薄層的厚度不大於該半球狀微結構的直徑。[[notice]]補正完畢[[booktype]]紙
[[abstract]]在本研究中,將採用化學氣相沉積法利用乙炔作為碳源、二茂鐵則作為金屬催化劑反應沉積奈米碳管,藉由改變矽基材表面處理參數,進而觀察不同矽基材表面處理參數對奈米碳管成長之影響,並且利...
[[abstract]]本研究旨在分析軟質多孔性次微米粒子之掃流微過濾中濾餅之成長及其性質。葡聚糖-二氧化錳粒子被製備並用以進行掃流過濾實驗。操作條件對過濾性能的影響被深入探討。實驗結果發現,增加過濾...
計畫編號:NSC95-2221-E032-034研究期間:200608~200707研究經費:368,000[[abstract]]本研究在室溫下利用沉積一層相變化材料,接著使用飛秒雷射脈衝並以光熔化...
專利類型:發明 專利國別:中華民國 專利公開/公告號:201247386/I461285 專利申請號:100117411 國際分類號:B29C-033/58(2006.01);B29L-011/00(...
專利類型:發明專利國別:中華民國專利公開/公告號:200503792專利申請號:092119530國際分類號:A61L-002/18; A61L-101/36[[abstract]]本發明提出一種全新...
本論文的目的為利用複合式平台來研究細胞型態以及行為。複合結構式平台是由兩層不同楊式模數的材料所組成,使用材料包含膠原蛋白以及PDMS,上層為硬度較小的膠原蛋白,下層為硬度較大且有圓柱陣列結構的PDMS...
碩士顯示技術研究所[[abstract]]本文利用具有可撓性的聚二甲基矽氧烷(PDMS)當作模仁來作轉印。在未使用脫膜劑情況下,將PDMS軟模仁用熱壓或紫外光固化轉印的方式,成功轉印微結構球面陣列圖案...
[[abstract]]多孔矽結構具有許多優質的特殊性質,廣泛應用於半導體、能源及感測器等領域,多孔矽結構發展製程技術上扮演著關鍵的角色。本研究為探討一種簡易與迅速的金屬輔助化學蝕刻技術(metal-...
[[abstract]]本研究主要利用RF 磁控濺鍍法在塑膠基板沈積二氧化矽薄膜,以作為後續製作薄膜電晶體阻絕層之用,藉由濺鍍製程參數的控制,對不同材質塑膠基板(PET、PES、PMMA)沈積SiO2...
專利類型:新型 專利國別:中華民國 專利公告號:M462952 專利申請號:102207028 國際分類號:H01L-031/04(2006.01);H01L-031/18(2006.01) 專利期間...
本研究致力於探索在非平面基底上進行二維及三維結構的低成本並行加工的實現機理及方法。新開發的真空壓印方法通過採用一塊彈性印章,實現了大面積(>6”)的亞微米精度的非平面保形印刷,可應用於不同的壓印材料及...
Методами электронного парамагнитного резонанса (ЭПР) и резерфордовского обратного рассеяния ...
[[abstract]]在高速基板設計中,傳輸線路是否特性阻抗匹配良好,將會造成訊號傳輸的品質優劣,設計良好的阻抗匹配能將高頻訊號傳送至負載點,而不能有訊號反射回來源點及造成雜訊,進而能提昇能源效益。...
計畫編號:NSC99-2221-E032-061-MY2研究期間:20110801~20120731研究經費:684,000[[abstract]]微型製造技術(microfabrication)之大...
[[abstract]]本論文介紹一個可執行程式之平行機器模擬環境(Parallel Machine Simulation Environment)的開發、實作以及後續的發展方向,目前已提供的是一個可...
[[abstract]]在本研究中,將採用化學氣相沉積法利用乙炔作為碳源、二茂鐵則作為金屬催化劑反應沉積奈米碳管,藉由改變矽基材表面處理參數,進而觀察不同矽基材表面處理參數對奈米碳管成長之影響,並且利...
[[abstract]]本研究旨在分析軟質多孔性次微米粒子之掃流微過濾中濾餅之成長及其性質。葡聚糖-二氧化錳粒子被製備並用以進行掃流過濾實驗。操作條件對過濾性能的影響被深入探討。實驗結果發現,增加過濾...
計畫編號:NSC95-2221-E032-034研究期間:200608~200707研究經費:368,000[[abstract]]本研究在室溫下利用沉積一層相變化材料,接著使用飛秒雷射脈衝並以光熔化...
專利類型:發明 專利國別:中華民國 專利公開/公告號:201247386/I461285 專利申請號:100117411 國際分類號:B29C-033/58(2006.01);B29L-011/00(...
專利類型:發明專利國別:中華民國專利公開/公告號:200503792專利申請號:092119530國際分類號:A61L-002/18; A61L-101/36[[abstract]]本發明提出一種全新...
本論文的目的為利用複合式平台來研究細胞型態以及行為。複合結構式平台是由兩層不同楊式模數的材料所組成,使用材料包含膠原蛋白以及PDMS,上層為硬度較小的膠原蛋白,下層為硬度較大且有圓柱陣列結構的PDMS...
碩士顯示技術研究所[[abstract]]本文利用具有可撓性的聚二甲基矽氧烷(PDMS)當作模仁來作轉印。在未使用脫膜劑情況下,將PDMS軟模仁用熱壓或紫外光固化轉印的方式,成功轉印微結構球面陣列圖案...
[[abstract]]多孔矽結構具有許多優質的特殊性質,廣泛應用於半導體、能源及感測器等領域,多孔矽結構發展製程技術上扮演著關鍵的角色。本研究為探討一種簡易與迅速的金屬輔助化學蝕刻技術(metal-...
[[abstract]]本研究主要利用RF 磁控濺鍍法在塑膠基板沈積二氧化矽薄膜,以作為後續製作薄膜電晶體阻絕層之用,藉由濺鍍製程參數的控制,對不同材質塑膠基板(PET、PES、PMMA)沈積SiO2...
專利類型:新型 專利國別:中華民國 專利公告號:M462952 專利申請號:102207028 國際分類號:H01L-031/04(2006.01);H01L-031/18(2006.01) 專利期間...
本研究致力於探索在非平面基底上進行二維及三維結構的低成本並行加工的實現機理及方法。新開發的真空壓印方法通過採用一塊彈性印章,實現了大面積(>6”)的亞微米精度的非平面保形印刷,可應用於不同的壓印材料及...
Методами электронного парамагнитного резонанса (ЭПР) и резерфордовского обратного рассеяния ...
[[abstract]]在高速基板設計中,傳輸線路是否特性阻抗匹配良好,將會造成訊號傳輸的品質優劣,設計良好的阻抗匹配能將高頻訊號傳送至負載點,而不能有訊號反射回來源點及造成雜訊,進而能提昇能源效益。...
計畫編號:NSC99-2221-E032-061-MY2研究期間:20110801~20120731研究經費:684,000[[abstract]]微型製造技術(microfabrication)之大...
[[abstract]]本論文介紹一個可執行程式之平行機器模擬環境(Parallel Machine Simulation Environment)的開發、實作以及後續的發展方向,目前已提供的是一個可...
[[abstract]]在本研究中,將採用化學氣相沉積法利用乙炔作為碳源、二茂鐵則作為金屬催化劑反應沉積奈米碳管,藉由改變矽基材表面處理參數,進而觀察不同矽基材表面處理參數對奈米碳管成長之影響,並且利...
[[abstract]]本研究旨在分析軟質多孔性次微米粒子之掃流微過濾中濾餅之成長及其性質。葡聚糖-二氧化錳粒子被製備並用以進行掃流過濾實驗。操作條件對過濾性能的影響被深入探討。實驗結果發現,增加過濾...
計畫編號:NSC95-2221-E032-034研究期間:200608~200707研究經費:368,000[[abstract]]本研究在室溫下利用沉積一層相變化材料,接著使用飛秒雷射脈衝並以光熔化...