Kapazitiv gekoppelte Mehrfrequenzplasmen zur Abscheidung keramischer und ferromagnetischer Schichten

Die vorliegende Dissertation beschäftigt sich mit großflächigen kapazitiv gekoppelten Mehrfrequenzplasmaquellen (MFCCPs) zur Abscheidung keramischer und ferromagnetischer Schichtsysteme mittels reaktiver Sputterprozesse. Die Verwendung mehrerer Frequenzen zur Plasmaerzeugung ermöglicht in gewissen Grenzen die unabhängige Kontrolle zweier fundamentaler Plasmagrößen in Sputterplasmen; der Ionenenergie und dem Ionenfluss auf das Target. Wohingegen typischerweise nur zwei verschiedene Anregungsfrequenzen verwendet werden, sind hier Vorteile von weiteren Anregungsfrequenzen herausgearbeitet. Durch Verwendung einer elektrisch asymmetrischen Plasmaanregung wird der kleiner werdenden Selfbiasspannung in großflächigen Entladungen entgegengewirkt. Die Untersuchungen der Mehrfrequenzprozesse basieren überwiegend auf Plasmadiagnostiken. Durch ausgewählte Schichtanalytiken sind Korrelationen zwischen Schichteigenschaften mit Plasmagrößen herausgearbeitet