Diagnostik an einer gepulsten RF-Entladung zur Erzeugung dünner a:C-H Schichten

In dieser Arbeit werden Messungen an einem gepulsten RF-Plasma vorgestellt. Die Entladungsdauern liegen im Bereich 50-150° ms, die Pulsfrequenz beträgt 0,5 Hz. Als Entladungsgas dient eine Mischung aus Argon und Acetylen. Vorgestellt werden zeitaufgelöste Langmuirsondenmessungen und zeitaufgelöste Spektroskopie zur Diagnose des Plasmas und Messungen der optischen und elektrischen Eigenschaften (Brechungsindex, Leitfähigkeit) der erzeugten Filme. Zudem wird die Oberflächenmorphologie der abgeschiedenen Filme untersucht. Es zeigt sich ein sehr starker Einfluss der Pulsdauer auf die Filmeigenschaften. Dies kann dadurch erklärt werden, dass sich das Plasma während der Pulse stark verändert, ausgelöst durch die Bildung größerer Kohlenwasserstoffmoleküle und kleiner Kohlenwasserstoffpartikel bzw. Staub