L'électronique organique a connu durant la dernière décennie un essor considérable. La production de dispositifs à base de matériaux organiques reste néanmoins freinée par différents verrous technologiques. La caractérisation de ce type de systèmes conduit à des besoins analytiques spécifiques et la spectrométrie de masse des ions secondaires à temps de vol (Timeof-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry – ToF SIMS) est a priori très pertinente notamment grâce à l'utilisation d'un nouveau type de faisceau d'ions à base d'agrégats d'argon (Arn +). L'objectif principal de ce travail a donc été de comprendre l'interaction ions-matière d'un tel faisceau avec les matériaux organiques utilisés en électronique organique. Une étude fondamentale a d'...
Next generation devices for microelectronics feature nanometric dimensions and incorporate heterogen...
Nowadays, the micro and nanotechnology field integrates a wide range of materials that can be define...
Les faisceaux d’ions de l’ordre du MeV permettent la mise en œuvre de techniques d’analyse tant élém...
L'électronique organique a connu durant la dernière décennie un essor considérable. La production de...
International audienceLe ToF-SIMS (Time of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry), technique prisée...
Time-of-flight secondary ion mass spectrometry (ToF-SIMS) is a powerful technique for the analysis o...
Aujourd’hui, une grande variété de matériaux dit « fragiles » sont intégrés dans des dispositifs mic...
Argon gas cluster ion beams (Ar-GCIBs) provide new opportunities for molecular depth profiling and i...
In addition to structural information, detailed knowledge of the local chemical environment proves t...
International audienceTo address all the concerns of organic electronics device development and espe...
International audienceLa technique de ToF-SIMS (time-of-flight secondary ion mass spectrometry) est ...
We discuss the potential of cluster ion beams for overcoming difficulties experienced within molecul...
The author uses TOF-SIMS (Time of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry) to characterize molecular ...
International audienceTime-of-flight secondary ion mass spectrometry (ToF-SIMS) is a high performanc...
Next generation devices for microelectronics feature nanometric dimensions and incorporate heterogen...
Nowadays, the micro and nanotechnology field integrates a wide range of materials that can be define...
Les faisceaux d’ions de l’ordre du MeV permettent la mise en œuvre de techniques d’analyse tant élém...
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International audienceLe ToF-SIMS (Time of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry), technique prisée...
Time-of-flight secondary ion mass spectrometry (ToF-SIMS) is a powerful technique for the analysis o...
Aujourd’hui, une grande variété de matériaux dit « fragiles » sont intégrés dans des dispositifs mic...
Argon gas cluster ion beams (Ar-GCIBs) provide new opportunities for molecular depth profiling and i...
In addition to structural information, detailed knowledge of the local chemical environment proves t...
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International audienceLa technique de ToF-SIMS (time-of-flight secondary ion mass spectrometry) est ...
We discuss the potential of cluster ion beams for overcoming difficulties experienced within molecul...
The author uses TOF-SIMS (Time of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry) to characterize molecular ...
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