作者在我国大陆首次实现了GaN基垂直腔面发射激光器(VCSEL)的激射.首先采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术在蓝宝石衬底上进行高质量氮化物增益区的外延生长.然后在表面沉积高反射介质膜分布布拉格反射镜(DBR).将样品键合到其它支撑片上后,采用激光剥离技术将蓝宝石衬底去除.再在去除蓝宝石后露出的氮化物表面沉积第二组介质膜DBR制成VCSEL.在室温光泵条件下,观察到VCSEL的激射.激射波长449.5nm。阈值6.5mJ/cm~2.激射峰的半高宽小于0.1nm,这些指标达到了国际领先水平.本文为进一步研制实用化氮化物VCSEL奠定了重要的基础
该文主要介绍作者在准一维纳米材料的制备、生长条件和生长机制等方面的研究工作.该文首先介绍了利用CVD方法制备超纯GaN纳米线以及Ga<,2>O&am...
一种GaN基薄膜芯片的制造方法,包括:1)在一蓝宝石衬底上生长外延层,该外延层包括N型层、活性层和P型层;2)在外延层上制作反射层;3)在反射层上涂覆第一树脂层;4)在第一树脂层上粘合第一...
在蓝宝石(0001)衬底上采用低压金属有机物公学气相沉积(MOCVD)方法生长GaN外延层,以此为材料,制作了暗电流很小的金属半导体金属(MSM)结紫外光探测器,测量了该紫外光探测器的暗电流和360n...
本发明公开了一种GaN基脊型激光二极管的制备方法。首先,通过在干法蚀刻脊型之前在脊型的顶部使用P区接触金属电极作挡光层,然后使用旋涂技术涂布负性光敏性热固化涂层胶。其次,通过背向曝光技术实现第二次光刻...
一种GaN基日盲型紫外探测器面阵,包括:一衬底;一成核层,该成核层生长在衬底上;一N型欧姆接触层,该N型欧姆接触层生长在成核层上;一有源层,该有源层生长在N型欧姆接触层上;一P型欧姆接触层,该P型欧姆...
利用有限元法,研究了GaN/AlN自组织量子点材料的应变场分布。量子点模型采用了实验观察到的六角平顶金字塔形状,材料的弹性常数考虑了晶体材料的Wurtzite结构特性。在晶格失配处理上,采用了三维各项...
采用电流加速的电应力老化方法研究GaN基绿光LED芯片的失效机理。LED芯片在经过60 mA电流老化424 h后,其发光效率总体趋势都是随老化时间增加而减小,但是小测量电流相比于大测量电流的发光效率衰...
本文综合报道我们近年来将光子晶格结构运用于InGaN/GaN量子阱发光器件即激光器和发光二极管的研究成果。我们发展了几种独特的在GaN系材料系发光器件上制备光子晶格结构的技术;运用电注入器件的显微电致...
采用双晶X射线衍射(DC-XRD)研究蓝宝石(0001)衬底上横向外延GaN层中晶面倾斜的形成原因。发现横向生长区的GaN在垂直掩模方向上朝SiNx掩模层弯曲。采用选择性腐蚀逐渐去掉SiNx掩模层,发...
Ⅲ族氮化物(又称GaN基)宽禁带半导体属于新兴的第三代半导体体系,在短波长光电子器件和功率电子器件领域具有重大应用价值。过去10多年,以蓝光和白光LED为核心的半导体照明技术和产业飞速发展,形成了对国...
半導体薄膜成長の起点となる表面の原子配置は、結晶品質の良し悪しに影響するため、素子応用の観点からも重要である。特に、窒化ガリウム(GaN)の分子線エピタキシャル(MBE)成長では、反射高速電子線回折(...
高品質GaInN 膜の実現は、GaN マトリックスを用いるこれまでのGaN 系発光デバイスに対し、より幅広いデバイス設計・デバイス応用を可能とする。高品質GaInN膜を実現するためには、格子緩和過程を...
半導体薄膜成長の起点となる表面の原子配置は、結晶品質の良し悪しに影響するため、素子応用の観点からも重要である。特に、窒化ガリウム(GaN)の分子線エピタキシャル(MBE)成長では、反射高速電子線回折(...
综述了GaN基垂直结构LED载流子局域效应对光强平面分布的影响,本文中VSLED采用Au-Au键合技术将LED外延片和Si片进行键合,之后用MALLO-5000微区激光剥离机剥离蓝宝石得到。调整不同键...
<span>利用先进的半导体微加工技术制备了GaN基光导型X射线探测器,观察到其在荧光灯照射下对X射线的光电流响应有明显降低的光淬灭现象,以及在荧光灯关闭和开启瞬间电流值的突变现象,设计了各种不同情形...
该文主要介绍作者在准一维纳米材料的制备、生长条件和生长机制等方面的研究工作.该文首先介绍了利用CVD方法制备超纯GaN纳米线以及Ga&amp;lt;,2&amp;gt;O&am...
一种GaN基薄膜芯片的制造方法,包括:1)在一蓝宝石衬底上生长外延层,该外延层包括N型层、活性层和P型层;2)在外延层上制作反射层;3)在反射层上涂覆第一树脂层;4)在第一树脂层上粘合第一...
在蓝宝石(0001)衬底上采用低压金属有机物公学气相沉积(MOCVD)方法生长GaN外延层,以此为材料,制作了暗电流很小的金属半导体金属(MSM)结紫外光探测器,测量了该紫外光探测器的暗电流和360n...
本发明公开了一种GaN基脊型激光二极管的制备方法。首先,通过在干法蚀刻脊型之前在脊型的顶部使用P区接触金属电极作挡光层,然后使用旋涂技术涂布负性光敏性热固化涂层胶。其次,通过背向曝光技术实现第二次光刻...
一种GaN基日盲型紫外探测器面阵,包括:一衬底;一成核层,该成核层生长在衬底上;一N型欧姆接触层,该N型欧姆接触层生长在成核层上;一有源层,该有源层生长在N型欧姆接触层上;一P型欧姆接触层,该P型欧姆...
利用有限元法,研究了GaN/AlN自组织量子点材料的应变场分布。量子点模型采用了实验观察到的六角平顶金字塔形状,材料的弹性常数考虑了晶体材料的Wurtzite结构特性。在晶格失配处理上,采用了三维各项...
采用电流加速的电应力老化方法研究GaN基绿光LED芯片的失效机理。LED芯片在经过60 mA电流老化424 h后,其发光效率总体趋势都是随老化时间增加而减小,但是小测量电流相比于大测量电流的发光效率衰...
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采用双晶X射线衍射(DC-XRD)研究蓝宝石(0001)衬底上横向外延GaN层中晶面倾斜的形成原因。发现横向生长区的GaN在垂直掩模方向上朝SiNx掩模层弯曲。采用选择性腐蚀逐渐去掉SiNx掩模层,发...
Ⅲ族氮化物(又称GaN基)宽禁带半导体属于新兴的第三代半导体体系,在短波长光电子器件和功率电子器件领域具有重大应用价值。过去10多年,以蓝光和白光LED为核心的半导体照明技术和产业飞速发展,形成了对国...
半導体薄膜成長の起点となる表面の原子配置は、結晶品質の良し悪しに影響するため、素子応用の観点からも重要である。特に、窒化ガリウム(GaN)の分子線エピタキシャル(MBE)成長では、反射高速電子線回折(...
高品質GaInN 膜の実現は、GaN マトリックスを用いるこれまでのGaN 系発光デバイスに対し、より幅広いデバイス設計・デバイス応用を可能とする。高品質GaInN膜を実現するためには、格子緩和過程を...
半導体薄膜成長の起点となる表面の原子配置は、結晶品質の良し悪しに影響するため、素子応用の観点からも重要である。特に、窒化ガリウム(GaN)の分子線エピタキシャル(MBE)成長では、反射高速電子線回折(...
综述了GaN基垂直结构LED载流子局域效应对光强平面分布的影响,本文中VSLED采用Au-Au键合技术将LED外延片和Si片进行键合,之后用MALLO-5000微区激光剥离机剥离蓝宝石得到。调整不同键...
<span>利用先进的半导体微加工技术制备了GaN基光导型X射线探测器,观察到其在荧光灯照射下对X射线的光电流响应有明显降低的光淬灭现象,以及在荧光灯关闭和开启瞬间电流值的突变现象,设计了各种不同情形...
该文主要介绍作者在准一维纳米材料的制备、生长条件和生长机制等方面的研究工作.该文首先介绍了利用CVD方法制备超纯GaN纳米线以及Ga&amp;lt;,2&amp;gt;O&am...
一种GaN基薄膜芯片的制造方法,包括:1)在一蓝宝石衬底上生长外延层,该外延层包括N型层、活性层和P型层;2)在外延层上制作反射层;3)在反射层上涂覆第一树脂层;4)在第一树脂层上粘合第一...
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