Die vorliegende Arbeit, die im Rahmen des Forschungsprogramms 'Grundlagenforschung für die Informationstechnik' im Forschungszentrum KFA Jülich angefertigt wurde, beschäftigt sich mit dem Einfluß einer Temperung unter einem Arsendruck auf die elektrischen Transporteigenschaften und die elektronische Defektstruktur vonGalliumarsenid. Die wesentlichen Meßmethoden waren Widerstands-und Halleffektmessungen und die Deep-Level Transient Spectroscopy (DLTS). Wegen des extrem kleinen Eigendiffusionskoeffizienten von Arsen in Galliumarsenid sollte eine Arsenatmosphäre die elektrischen Transporteigenschaften im Volumen von getempertem Galliumarsenid nicht beeinflussen. Vor circa 4 Jahren wurden jedoch Ergebnisse publiziert, daß neben der Stöchiometri...
Ziel der vorliegenden Arbeit war es, einen Beitrag zur Entwicklung bleifreier Legierungen, die hochb...
Der Verbindungshalbleiter Galliumarsenid (GaAs) ist neben dem Indiumphosphid (InP) der weitverbreite...
Die physikalischen und chemischen Eigenschaften von Halbleiter/Elektrolyt Grenzflächen sind für tech...
In der vorliegenden Arbeit wird der Punktdefekthaushalt von Galliumarsenid-Einkristallen mit untersc...
In der vorliegenden Arbeit wird der Punktdefekthaushalt von Galliumarsenid-Einkristallen mit untersc...
Die vorliegende Arbeit, die im Rahmen des Programms "Grundlagenforschung für die Informationstechnik...
Das Galliumarsenid ist z. Z. aufgrund seiner strukturellen und elektrischen Eigenschaften der wichti...
Zwei wichtige Anwendungsbeispiele für HREELS im Bereich mikroelektronischer Grundlagenforschung werd...
Ziel dieser Doktorarbeit war die Untersuchung von Gitterbaufehlern in GaAs mit Hilfe der Rastertunne...
Die Metallorganische Gasphasenepitaxie ist das bedeutendste Verfahren zur Herstellung von Mehrfachso...
Seit der Einführung der ersten Halbleiterbauelemente auf Silizium-Basis in den fünfziger Jahren dies...
$\textbf{7.1 Wesentliche Ergebnisse der Arbeit}$Primäres Ziel dieser Arbeit war die Bereitstellung s...
Um Informationen über die Strukturen von Zwischengitteratomen (ZGA) und Leerstellen (LS) in Halbleit...
Es wird eine Untersuchung des Verhaltens der Schädigungsrate, d. h. der Erhöhung der atomaren Frenke...
Ziel der vorliegenden Arbeit war es, einen Beitrag zur Entwicklung bleifreier Legierungen, die hochb...
Ziel der vorliegenden Arbeit war es, einen Beitrag zur Entwicklung bleifreier Legierungen, die hochb...
Der Verbindungshalbleiter Galliumarsenid (GaAs) ist neben dem Indiumphosphid (InP) der weitverbreite...
Die physikalischen und chemischen Eigenschaften von Halbleiter/Elektrolyt Grenzflächen sind für tech...
In der vorliegenden Arbeit wird der Punktdefekthaushalt von Galliumarsenid-Einkristallen mit untersc...
In der vorliegenden Arbeit wird der Punktdefekthaushalt von Galliumarsenid-Einkristallen mit untersc...
Die vorliegende Arbeit, die im Rahmen des Programms "Grundlagenforschung für die Informationstechnik...
Das Galliumarsenid ist z. Z. aufgrund seiner strukturellen und elektrischen Eigenschaften der wichti...
Zwei wichtige Anwendungsbeispiele für HREELS im Bereich mikroelektronischer Grundlagenforschung werd...
Ziel dieser Doktorarbeit war die Untersuchung von Gitterbaufehlern in GaAs mit Hilfe der Rastertunne...
Die Metallorganische Gasphasenepitaxie ist das bedeutendste Verfahren zur Herstellung von Mehrfachso...
Seit der Einführung der ersten Halbleiterbauelemente auf Silizium-Basis in den fünfziger Jahren dies...
$\textbf{7.1 Wesentliche Ergebnisse der Arbeit}$Primäres Ziel dieser Arbeit war die Bereitstellung s...
Um Informationen über die Strukturen von Zwischengitteratomen (ZGA) und Leerstellen (LS) in Halbleit...
Es wird eine Untersuchung des Verhaltens der Schädigungsrate, d. h. der Erhöhung der atomaren Frenke...
Ziel der vorliegenden Arbeit war es, einen Beitrag zur Entwicklung bleifreier Legierungen, die hochb...
Ziel der vorliegenden Arbeit war es, einen Beitrag zur Entwicklung bleifreier Legierungen, die hochb...
Der Verbindungshalbleiter Galliumarsenid (GaAs) ist neben dem Indiumphosphid (InP) der weitverbreite...
Die physikalischen und chemischen Eigenschaften von Halbleiter/Elektrolyt Grenzflächen sind für tech...