Die in dieser Arbeit erzielten Ergebnisse geben einen Einblick in die Einbaumechachanismen von Kohlenstoff aus den in der MOMBE verwendeten Duellmaterialien und die Eigenschaften des Kohlenstoffs in GaAs. Es wurde festgestellt, daß der extrinsische Einbau von Störstellen bei der Epitaxie mittels TEGa für Wachstumstemperaturen unterhalb T$_{W}$=815 K und für Ladungsträgerkonzentrationen p 5x10$^{19}$ cm$^{-3}$) dotierten GaAs in Bauelementen auf passive Schichten wie zum Beispiel Kontaktschichten, im Vergleich mit den Eigenschaften anderer als Akzeptor eingebauten Störstellen wie Be, Zn oder Mg ist Kohlenstoff jedoch als der für die Verwendung in Bauelementen geeigneste Akzeptordotierstoff im System GaAs/Al$_{x}$Ga$_{1-x}$As anzusehen
$\textbf{7.1 Wesentliche Ergebnisse der Arbeit}$Primäres Ziel dieser Arbeit war die Bereitstellung s...
Mittels Heteroepitaxie und selektiver Epitaxie aus der Gasphase werden Verfahren für Herstellung von...
Um Informationen über die Strukturen von Zwischengitteratomen (ZGA) und Leerstellen (LS) in Halbleit...
Erstmalig wurden für die VGF-Züchtung von GaAs-Kristallen die verschiedenen Möglichkeiten der Beeinf...
Erstmalig wurden für die VGF-Züchtung von GaAs-Kristallen die verschiedenen Möglichkeiten der Beeinf...
In dieser Arbeit wurde die metallorganische Molekularstrahlepitaxie (MOMBE) im Materialsystem GaInP/...
Die Vor- und Nachteile der metallorganischen Molekularstrahlepitaxie sind kausal mit der Verwendung ...
Gegenstand dieser Arbeit war die Optimierung des Wachstumsprozesses von undotiertem GaAs und Al$_{x}...
In der vorliegenden Arbeit wird ein elektrisch aktivierter Zustand von GaAs mit erhöhter elektrische...
Der Verbindungshalbleiter Galliumarsenid (GaAs) ist neben dem Indiumphosphid (InP) der weitverbreite...
Die Metallorganische Gasphasenepitaxie ist das bedeutendste Verfahren zur Herstellung von Mehrfachso...
Im Rahmen dieser Arbeit wurde das Wachstum von GaAs und Al$_{x}$Ga$_{1_x}$As in der Niedrigdruckgasp...
Das Galliumarsenid ist z. Z. aufgrund seiner strukturellen und elektrischen Eigenschaften der wichti...
Die vorliegende Arbeit, die im Rahmen des Programms "Grundlagenforschung für die Informationstechnik...
GaAs ist derzeit wohl profilierteste Vertreter der Gruppe der sog. III-V-Verbindungshalbleiter. Bei ...
$\textbf{7.1 Wesentliche Ergebnisse der Arbeit}$Primäres Ziel dieser Arbeit war die Bereitstellung s...
Mittels Heteroepitaxie und selektiver Epitaxie aus der Gasphase werden Verfahren für Herstellung von...
Um Informationen über die Strukturen von Zwischengitteratomen (ZGA) und Leerstellen (LS) in Halbleit...
Erstmalig wurden für die VGF-Züchtung von GaAs-Kristallen die verschiedenen Möglichkeiten der Beeinf...
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Die vorliegende Arbeit, die im Rahmen des Programms "Grundlagenforschung für die Informationstechnik...
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$\textbf{7.1 Wesentliche Ergebnisse der Arbeit}$Primäres Ziel dieser Arbeit war die Bereitstellung s...
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