[[alternative]]Ultraviolet Soft-Mold Lithography for Flexible Plastic Substrates

碩士機電工程學系[[abstract]]本實驗利用紫外光軟模仁轉印微影術(Soft UV-NIL)，用異丙醇稀釋紫外光固化樹脂(photo-curing resin, U-451D)取代國外昂貴UV光阻LR8765(BASF AG)，在室溫低壓(<1.5bar)下，利用聚二甲基矽氧烷(PDMS)的可撓性及高透光性優點，轉印在乾淨塑膠基板(PES)。之後不需經過繁瑣的製程步驟，就可以得到精確奈米級圖形。另一方面，本論文利用塑膠基板(PES)耐高溫特性，選擇高溫低壓的環境下，利用軟模仁熱壓式轉印微影術，轉印在塗有熱塑性高分子NXR1010的塑膠基板上。 本實驗紫外光軟模仁微影術具有製程時間短暫，及製程條件容易，在室溫下進行，基板不會因製程熱循環而產生變形，具備在室溫低壓下製程穩定與高產率優勢：而熱壓式軟模仁轉印微影術實驗製程雖有升溫降溫製程時間消耗，但製程中卻可大量降低氣泡產生，避免影響圖形轉印解析度，大大提升轉印成功率。本實驗在可撓性塑膠基板上完成線寬400nm線條結構以及1μm柱狀結構，並可將這些轉印結構應用在微流道、可撓性顯示器、生醫檢測技術。[[abstract]]The thesis studies soft ultraviolet nanoimprint lithography (soft UV-NIL). Isopropanol (IPA) is used to dilute photo-curing resin (U-451D) in order to replace a more expensive UV-curable materials, such as LR8765(BASF AG). At room temperature and low-pressure (