在高真空系统中,将C70膜淀积在n-和p-GaAs(100)衬底上,制成C70/n-GaAs和C70/p-GaAs两种接触,并对它们的电学性质作了研究.结果发现两种接触均为强整流结,在偏压为±1V时,C70/n-GaAs和C70/p-GaAs接触的整流比分别大于106和104,并且它们的理想因子都接近于1.当正向偏压固定时,它们的电流均是温度倒数的指数函数,从中确定两种异质结的有效势垒高度分别为0.784和0.531eV.用深能级瞬态谱(DLTS)在C70/GaAs界面上观察到电子陷阱E(0.640eV)和空穴陷阱H3(0.822eV),以及用电容-时间(C-t)技术在固体C70中观测到两种空穴陷阱H4(1.155eV)和H5(0.856eV).E(0.640eV) 和 H3(0.822eV) 的密度均小于1012/cm2,可以得出结论:固体C70对GaAs表面具有很好的钝化作用.国家自然科学基金中文核心期刊要目总览(PKU)中国科学引文数据库(CSCD)08985-9912
Ⅲ—Ⅴ氮化物是直接带隙半导体,带宽可以覆盖从1.9eV到6.2eV的范围,适合于制作短波长LEDs和LDs。由于没有适当的衬底材料,通常在Al_2O_3或GaAs上生长GaN时多采用氮化步骤。Al_2...
Heterojunction of solid C70 and p-type crystalline Si has been made. Current-voltage measurement sho...
Heterojunctions of solid C70 and n- or p-type crystalline Si have been made. Current-voltage measure...
在高真空系统中,将C70膜淀积在(100)晶向n型和p型GaAs衬底上,形成固体C70/n-GaAs 和C70/p-GaAs两种接触.电学测量表明两种接触均是强整流结,在偏压为±1V...
Solid C70/GaAs contacts were fabricated by vacuum deposition of solid C70 films on the n-type and p-...
在高真空系统中,将C<,70)膜淀积在(100)晶向n型和p型GaAs衬底上,形成固体C<,70>/n-GaAs和C<,70>/p...
The electrical properties of the heterojunction of solid C60/n-type GaAs were studied. The results o...
发展了恒温电容瞬态数据处理方法 ,称新方法为恒温电容瞬态时间积谱 (ICTTS) .用ICTTS方法测量分析了C70固体 p GaAs异质结的深能级 ,结果发现在C70 固体中存在两个很深的空穴陷阱 ...
Solid C60/p-type GaAs heterojunctions have been made by deposition of solid C60 film on the epitaxia...
在热中子与快中子成份比大于70的条件下,用6.5×1016cm-2和6.5×1018cm-2剂量水平辐照纯净GaAs样品,研究由于嬗变产生的杂质和损伤。所得结果表明:热中子对Ga、As发生俘获核反应,...
采用分子束外延(MBE)方法,在(001)GaAs衬底上生长了短周期Ⅱ型超晶格(SLs):InAs/GaSb (2ML/8ML)和InAs/GaSb (8ML/8ML).从X射线衍射(HRXRD)中计...
介绍了一种能够全面表征半导体二极管器件的电学特性的方法,此方法结合半导体二极管的正向交流特性和直流特性,称之为正向交流小信号法.利用该方法深入地研究和对比分析了GaN基和GaAs基半导体激光器的电学特...
Heterojunctions were fabricated by deposit of amorphous GaAs and GaAsN on c-GaAs. $I(V)$ and $C(V)$ ...
GaAsLSI用の基本論理回路としてSLCF(Schottky Diode Level Shifter Capacitor Coupled FET Logic)を提案する.本回路は,論理段とレベルシフ...
分子線エピタキシー法により成長したSiドープ(311)A GaAsの伝導型の結晶成長条件依存性について詳細に検討した. Siドープ (311)A GaAsの伝導型は, 低成長温度/高ひ素圧条件下ではn...
Ⅲ—Ⅴ氮化物是直接带隙半导体,带宽可以覆盖从1.9eV到6.2eV的范围,适合于制作短波长LEDs和LDs。由于没有适当的衬底材料,通常在Al_2O_3或GaAs上生长GaN时多采用氮化步骤。Al_2...
Heterojunction of solid C70 and p-type crystalline Si has been made. Current-voltage measurement sho...
Heterojunctions of solid C70 and n- or p-type crystalline Si have been made. Current-voltage measure...
在高真空系统中,将C70膜淀积在(100)晶向n型和p型GaAs衬底上,形成固体C70/n-GaAs 和C70/p-GaAs两种接触.电学测量表明两种接触均是强整流结,在偏压为±1V...
Solid C70/GaAs contacts were fabricated by vacuum deposition of solid C70 films on the n-type and p-...
在高真空系统中,将C<,70)膜淀积在(100)晶向n型和p型GaAs衬底上,形成固体C<,70>/n-GaAs和C<,70>/p...
The electrical properties of the heterojunction of solid C60/n-type GaAs were studied. The results o...
发展了恒温电容瞬态数据处理方法 ,称新方法为恒温电容瞬态时间积谱 (ICTTS) .用ICTTS方法测量分析了C70固体 p GaAs异质结的深能级 ,结果发现在C70 固体中存在两个很深的空穴陷阱 ...
Solid C60/p-type GaAs heterojunctions have been made by deposition of solid C60 film on the epitaxia...
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Heterojunction of solid C70 and p-type crystalline Si has been made. Current-voltage measurement sho...
Heterojunctions of solid C70 and n- or p-type crystalline Si have been made. Current-voltage measure...