介绍了可用于可录、可擦除、全息光存储及超分辨掩膜层的氧化物、次氧化物薄膜材料的种类、制备方法、光存储特性和存储机制。这类薄膜材料由于具有种类多、应用范围广、制备方法多样、写入灵敏度高和记录稳定性好等优点,正受到各国研究者越来越多的关注。分析总结了这类材料的研究现状、存在的主要问题和未来发展方向。The kinds, preparation methods, optical recording performances and mechanism of oxides and sub-oxides thin films, which are suitable to using as recordable, erasable and holographic optical recording media and mask layer for super-resolution recording, are introduced and reviewed. This kind of thin film is obtained more and more attention due to its high recording sensitivity, good stability, wide application fields and various deposition methods. The status of research and the direction for investigation in the near future are pointed out
학위논문 (박사)-- 서울대학교 융합과학기술대학원 : 융합과학부 나노융합전공, 2015. 8. 김연상.In this paper, development of oxide thin-fi...
Des couches minces d'oxyde de vanadium, V2O5, ont été déposées à température ambiante sur substrat I...
Thin rare earth (RE) oxide films are emerging materials for microelectronic, nanoelectronic, and spi...
系统总结了用于光存储记录层的氧化物薄膜的存储机理、存储特性以及最新进展,讨论了氧化物掺杂对提高存储性能的影响,指出了氧化物薄膜存在的不足,并探讨了可能的改善途径。在此基础上对存储材料的发展趋势及氧化物...
author Thomas GötschKumulative Dissertation aus elf ArtikelnUniversity of Innsbruck, Dissertation, 2...
运用电子束、离子辅助和离子束溅射三种镀膜工艺分别制备光学薄膜,包括单层氧化物薄膜和增透膜,然后采取一系列测试手段,如Zygo轮廓仪、原子力显微镜、表面热透镜技术和X射线衍射等技术,来分析和研究不同的工...
[[abstract]]氧化錫通常以一氧化錫(SnO)及二氧化錫(SnO2)此二種形式存在,而且鮮少有報導關於氧化錫的單一相之形成及擇優取向薄膜的成長。本研究是採用射頻磁控濺鍍法,以低射頻功率沈積Sn...
[[abstract]]本篇論文主要研究使用射頻濺鍍系統在玻璃基板上鍍兩種參數的氧化亞銅薄膜和氧化銅薄膜,再經由光纖雷射加熱系統,設定雷射功率2%、4%和8%,再分別調整雷射加熱移動速度5mm/s、1...
With recent advances in engineering, thin film technology is playing an increasingly important rote ...
Peer Reviewedhttp://deepblue.lib.umich.edu/bitstream/2027.42/65331/1/j.1551-2916.2008.02556.x.pd
Some unique characteristics of epitaxial growth of oxide thin films prepared by pulsed laser deposit...
Physical vapor deposition is the most common technique used to deposit optical thin films for a larg...
给出了漂移区为线性掺杂的高压薄膜SOI器件的设计原理和方法.在Si膜厚度为0.15μm、隐埋氧化层厚度为2μm的SOI硅片上进行了LDMOS晶体管的制作.首次对薄膜SOI功率器件的击穿电压与线性掺杂漂...
A comprehensive review of recent advances in solution processing and growth of metal-oxide thin film...
本論文では,最初に磁気光学効果の現象論,微視的理論を簡単に概観し,磁気光学的応用に有用な磁性薄膜の作製及び磁気光学的性質に関する最近の研究を紹介する.そこでは,薄膜へのBi^<3+>のようなイオンの多...
학위논문 (박사)-- 서울대학교 융합과학기술대학원 : 융합과학부 나노융합전공, 2015. 8. 김연상.In this paper, development of oxide thin-fi...
Des couches minces d'oxyde de vanadium, V2O5, ont été déposées à température ambiante sur substrat I...
Thin rare earth (RE) oxide films are emerging materials for microelectronic, nanoelectronic, and spi...
系统总结了用于光存储记录层的氧化物薄膜的存储机理、存储特性以及最新进展,讨论了氧化物掺杂对提高存储性能的影响,指出了氧化物薄膜存在的不足,并探讨了可能的改善途径。在此基础上对存储材料的发展趋势及氧化物...
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运用电子束、离子辅助和离子束溅射三种镀膜工艺分别制备光学薄膜,包括单层氧化物薄膜和增透膜,然后采取一系列测试手段,如Zygo轮廓仪、原子力显微镜、表面热透镜技术和X射线衍射等技术,来分析和研究不同的工...
[[abstract]]氧化錫通常以一氧化錫(SnO)及二氧化錫(SnO2)此二種形式存在,而且鮮少有報導關於氧化錫的單一相之形成及擇優取向薄膜的成長。本研究是採用射頻磁控濺鍍法,以低射頻功率沈積Sn...
[[abstract]]本篇論文主要研究使用射頻濺鍍系統在玻璃基板上鍍兩種參數的氧化亞銅薄膜和氧化銅薄膜,再經由光纖雷射加熱系統,設定雷射功率2%、4%和8%,再分別調整雷射加熱移動速度5mm/s、1...
With recent advances in engineering, thin film technology is playing an increasingly important rote ...
Peer Reviewedhttp://deepblue.lib.umich.edu/bitstream/2027.42/65331/1/j.1551-2916.2008.02556.x.pd
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给出了漂移区为线性掺杂的高压薄膜SOI器件的设计原理和方法.在Si膜厚度为0.15μm、隐埋氧化层厚度为2μm的SOI硅片上进行了LDMOS晶体管的制作.首次对薄膜SOI功率器件的击穿电压与线性掺杂漂...
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학위논문 (박사)-- 서울대학교 융합과학기술대학원 : 융합과학부 나노융합전공, 2015. 8. 김연상.In this paper, development of oxide thin-fi...
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