浸液光刻投影物镜的数值孔径目前已经达到1.35,这对与之匹配的照明系统光瞳测量提出了十分苛刻的需求,为此设计了一种用于照明光瞳测量的傅里叶变换物镜。分析了傅里叶变换物镜应该满足的畸变要求,并针对照明光瞳测量实际需求分析了傅里叶变换物镜的正弦条件偏离的阈值,采用对不同视场角预留不同负畸变值的方法,实现了一种傅里叶变换物镜光学设计,采用5块透镜、1种光学材料,满足照明光瞳测量对正弦条件偏离阈值的要求,成像质量接近衍射极限,并对傅里叶变换物镜逆向光路也进行了分析计算。通过傅里叶变换物镜光学设计的具体实例,证实了通过对不同视场角预留不同负畸变值设计方法的有效性,利用该方法可以获得满足实际照明光瞳测量要求的傅里叶变换物镜。Numerical aperture (NA) of the projection objectives of the immersion microlithographic projection exposure machines has reached 1.35 and the measurements of the illumination pupil should meet very stringent requirements. A Fourier transform lens is designed and used for the measurement of the illumination pupil of the immersion microlithographic projection exposure machines. It is analyzed that the distortion of the Fourier transform l...
硅是现代半导体微电子科技的基石材料,同时也是一种重要的光学材料。特别是在中红外波段,由于其高折射率和高透射率的特点,在通信硅基光子学,中远红外成像等领域有着非常广泛的应用。硅基平面光学技术由成熟的半导...
[[abstract]]本研究以優化 LED 手機閃光燈之菲涅爾透鏡的幾何光學設計及成型品質為目的,避免良好的光學設 計卻因成型不良而造成產品設計不佳的現象產生。本研究藉由 CAE 技術進行光學設計、...
为解决传统光学检测方法存在的对已刻(干刻)区域无法检测、潜在曝光可能性、系统光路复杂以及灵敏度较低等缺点,提出了一种可用于激光直写光刻自动聚焦的高灵敏度流量计式位移检测系统。详细介绍了系统的原理、系统...
投影光刻机普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式。针对投影光刻机中准分子激光器空间相干性差的特点,提出了一种混合分区设计方法,并利用该方法对产生传统照明模式、二极照明模式和四极照明模式的DO...
一种用于印刷电路板(PCB)的激光直接成像(LDI)光刻设备,需要加工高密度互连(HDI)基板的厚度变化范围为0.025~3mm,为此设计了一种共轭距可变的光刻投影物镜。采用双远心光路结构,通过压缩物...
光刻机光瞳整形普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式。针对其光学特性的检测需求,提出了一种光刻机光瞳整形DOE远场多参数检测方法。该方法通过对远场光强分布进行转换,可同时获得DOE远场衍射图...
[[abstract]]本論文主要以三種光學元件完成雷射平頂最佳化,並以基因演算法找尋最佳 的結果,其中包含同軸對稱光學系統與同軸非對稱光學系統,而對稱光學元件包 括非球面透鏡、漸變式透鏡,非對稱光學...
鏡面加工された加工面の非接触計測方法としては,主に光学的方法,特にレーザ光の直進性を利用した光計測方法が多用されている.最近その受光素子として4分割フォトセンサを用いた計測技術が多数報告されている.こ...
[[abstract]]隨著智慧型手機及可攜型裝置逐年提升,發展更加多元化,3C產品市場趨勢朝著薄型化、輕量化發展,並且由於科技的進步,以及消費者對畫質的要求比以往來得更高,輕薄短小的要求將會更加嚴格...
В работе исследуется возможность увеличения дифракционной эффективности фазовых масок, формирующих д...
[[abstract]]在雷射加工技術上,光束的品質往往會影響到加工的結果,通常雷射輸出的光束是呈現高斯分佈,對於加工而言,高斯光束的加工結果會使得加工斷面呈現一個較差的加工斷面現象,進而導致損壞元件...
Розроблено та представлено побудову пристрою вимірювання кута зсуву фази для оптичного середовища і...
体全息光栅由于具有灵敏的布拉格角度和波长选择性等诸多优点,成为了全息、数据存储和多功能三维光学集成系统的首选研究对象。三维光学系统能够直接处理多维光学数据,具有光学并行传播和处理、光学的无干扰交叉传输...
Кратко рассказывается о технологии формирования высоких микрорельефов в контексте научного пути стар...
提出一种基于线性模型的光刻投影物镜偏振像差补偿方法。根据Hopkins矢量部分相干成像理论,推导了投影物镜含有偏振像差时交替型相移掩模(Alt-PSM)光栅图形的空间像光强分布以及偏振像差引起的光栅图...
硅是现代半导体微电子科技的基石材料,同时也是一种重要的光学材料。特别是在中红外波段,由于其高折射率和高透射率的特点,在通信硅基光子学,中远红外成像等领域有着非常广泛的应用。硅基平面光学技术由成熟的半导...
[[abstract]]本研究以優化 LED 手機閃光燈之菲涅爾透鏡的幾何光學設計及成型品質為目的,避免良好的光學設 計卻因成型不良而造成產品設計不佳的現象產生。本研究藉由 CAE 技術進行光學設計、...
为解决传统光学检测方法存在的对已刻(干刻)区域无法检测、潜在曝光可能性、系统光路复杂以及灵敏度较低等缺点,提出了一种可用于激光直写光刻自动聚焦的高灵敏度流量计式位移检测系统。详细介绍了系统的原理、系统...
投影光刻机普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式。针对投影光刻机中准分子激光器空间相干性差的特点,提出了一种混合分区设计方法,并利用该方法对产生传统照明模式、二极照明模式和四极照明模式的DO...
一种用于印刷电路板(PCB)的激光直接成像(LDI)光刻设备,需要加工高密度互连(HDI)基板的厚度变化范围为0.025~3mm,为此设计了一种共轭距可变的光刻投影物镜。采用双远心光路结构,通过压缩物...
光刻机光瞳整形普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式。针对其光学特性的检测需求,提出了一种光刻机光瞳整形DOE远场多参数检测方法。该方法通过对远场光强分布进行转换,可同时获得DOE远场衍射图...
[[abstract]]本論文主要以三種光學元件完成雷射平頂最佳化,並以基因演算法找尋最佳 的結果,其中包含同軸對稱光學系統與同軸非對稱光學系統,而對稱光學元件包 括非球面透鏡、漸變式透鏡,非對稱光學...
鏡面加工された加工面の非接触計測方法としては,主に光学的方法,特にレーザ光の直進性を利用した光計測方法が多用されている.最近その受光素子として4分割フォトセンサを用いた計測技術が多数報告されている.こ...
[[abstract]]隨著智慧型手機及可攜型裝置逐年提升,發展更加多元化,3C產品市場趨勢朝著薄型化、輕量化發展,並且由於科技的進步,以及消費者對畫質的要求比以往來得更高,輕薄短小的要求將會更加嚴格...
В работе исследуется возможность увеличения дифракционной эффективности фазовых масок, формирующих д...
[[abstract]]在雷射加工技術上,光束的品質往往會影響到加工的結果,通常雷射輸出的光束是呈現高斯分佈,對於加工而言,高斯光束的加工結果會使得加工斷面呈現一個較差的加工斷面現象,進而導致損壞元件...
Розроблено та представлено побудову пристрою вимірювання кута зсуву фази для оптичного середовища і...
体全息光栅由于具有灵敏的布拉格角度和波长选择性等诸多优点,成为了全息、数据存储和多功能三维光学集成系统的首选研究对象。三维光学系统能够直接处理多维光学数据,具有光学并行传播和处理、光学的无干扰交叉传输...
Кратко рассказывается о технологии формирования высоких микрорельефов в контексте научного пути стар...
提出一种基于线性模型的光刻投影物镜偏振像差补偿方法。根据Hopkins矢量部分相干成像理论,推导了投影物镜含有偏振像差时交替型相移掩模(Alt-PSM)光栅图形的空间像光强分布以及偏振像差引起的光栅图...
硅是现代半导体微电子科技的基石材料,同时也是一种重要的光学材料。特别是在中红外波段,由于其高折射率和高透射率的特点,在通信硅基光子学,中远红外成像等领域有着非常广泛的应用。硅基平面光学技术由成熟的半导...
[[abstract]]本研究以優化 LED 手機閃光燈之菲涅爾透鏡的幾何光學設計及成型品質為目的,避免良好的光學設 計卻因成型不良而造成產品設計不佳的現象產生。本研究藉由 CAE 技術進行光學設計、...
为解决传统光学检测方法存在的对已刻(干刻)区域无法检测、潜在曝光可能性、系统光路复杂以及灵敏度较低等缺点,提出了一种可用于激光直写光刻自动聚焦的高灵敏度流量计式位移检测系统。详细介绍了系统的原理、系统...