PYROLYTIC DECOMPOSITION OF SILANE ON LASER-IRRADIATED SILICA SUBSTRATES

Resume- Des microstructures ont et6 obte~ues sur substrats de silice (recouverts ou non d'une couche mince de silicium) par dCcomposition du silane sous irradiation par un laser CO2 continu. La vitesse de dCp6t des microstructures de silicium ayant un profil gaussien est proportionnelle I la pression de silane et varie lineairement avec la puissance du laser ou la tempkrature de la surface du substrat. A faible pression de silane (infkrieure B 1 Torr) et au:dessus de 1050°C, des microstructures en forme d'anneau ont CtC dCposCes sur substrat de silice et la silice Ctait gravbe au centre du spot. Les mecanismes rkactionnels intervenant dans le dCp6t de silicium et la gravure de la silice sont analyses dans cet article. Abstract- Microstructures were produced on Si-coated or uncoated silica substrates via cw CO2 laser-induced decomposition of silane. The deposition rate of Si dots having a Gaussian profile was found to be proportional to the SiH4 pressure and linearly dependent on the laser power or laser-induced surface temperature. At low SiH4 pressures (below 1 Torr) and above 1050°C, ring-shaped Si dots were deposited on silica substrates and SiO2 was etched at the center of the laser spot. The reaction mechanisms of th